Der LEELIS-III Workshop wird am 12. und 13. November in Amsterdam (ARCNL) organisiert und Demaco Vacuum Technology ist als einer der Sponsoren vor Ort. Nachdruck wird vor allem gelegt auf die Rolle der Niedrig-Energie Elektronen auf dem Gebiet der Bildgebung und der Nanolithographie. Da die Niedrig-Energie Elektronen eine Schlüsselrolle bei diversen Prozessen einnehmen, von der Radiologie bis zur Astrochemie, sind sie besonders wichtig für die industrielle Extrem Ultraviolette Lithographie (EUVL) und die Niedrig-Energie Elektronen Mikroskopie (LEEM).
Experten komplementärer Wissenschaften, wie z.B. die Physik der kondensierten Materie, EUVL, Niedrig-Energie Elektronen Mikroskopie und Technik werden hier zusammengeführt, um zu neuen Erkenntnissen über die Wechselwirkungen der Niedrig-Energie Elektronen Physik und der Chemie, die sie erzeugen, zu kommen.
